Q-POD Element終端制器

產(chǎn)品簡(jiǎn)介
Q-POD Element終端制器可以提供元素污染物含量低的超純水(ppt或亞ppt水平)，適用于痕量元素分析實(shí)驗(yàn)，如ICP-Mass等。專門(mén)設(shè)計(jì)的Q-POD Element，可與Milli-Q Integral或Milli-Q Advantage超純水純化系統(tǒng)聯(lián)合使用，達(dá)到生產(chǎn)低元素水平超純水的目的。

產(chǎn)品型號(hào)：Q-POD Element

更新時(shí)間：2024-08-13

廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商

訪問(wèn)量：2628

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Q-POD Element終端制器可以提供元素污染物含量低的超純水（ppt或亞ppt水平），適用于痕量元素分析實(shí)驗(yàn)，如ICP-Mass等。專門(mén)設(shè)計(jì)的Q-POD Element，可與Milli-Q Integral或Milli-Q Advantage超純水純化系統(tǒng)聯(lián)合使用，達(dá)到生產(chǎn)低元素水平超純水的目的。Q-POD Element終端制器使用超凈材料和一系列*化的水純化技術(shù)，生產(chǎn)電阻率為18.2MΩ.cm的超純水（25℃），是痕量分析法的理想用水。其設(shè)有腳踏板，無(wú)需手動(dòng)為潔凈區(qū)供水，無(wú)需手接觸取水器，進(jìn)一步降低了污染的可能性。

Q-POD Element 終端制器技術(shù)指標(biāo)：

參數(shù)	數(shù)值
電阻率	18.2MΩ.cm @ 25℃
元素水平	ppt或亞ppt級(jí)（參見(jiàn)元素列表）
顆粒	< 1/L（> 0.5 μm）
硅	< 1 ppb （AA計(jì)算得）
TOC	< 5 ppb
細(xì)菌	< 0.01 cfu / ml （使用新過(guò)濾器和管路）

元素列表（包括實(shí)驗(yàn)方法在內(nèi)的報(bào)告全文可按需提供）

元素	符號(hào)	同位素	Q-Pod Element終端制器 BEC（ppt或ng/l）（*）	元素	符號(hào)	同位素	Q-Pod Element終端制器 BEC（ppt或ng/l）（*）
鋁	Al	27	1.473	汞	Hg	202	0.067
銻	Sb	121	0.136	鉬	Mo	98	0.346
砷	As	75	0.078	鎳	Ni	60	0.109
鋇	Ba	138	0.043	鈮	Nb	93	0.016
鈹	Be	9	0.367	鉑	Pt	195	0.116
鉍	Bi	209	0.009	鉀（**）	K	39	14.496
鎘	Cd	114	0.011	錸	Re	187	0.669
鈣	Ca	40	0.581	Rb	85	0.012
鈰	Ce	140	0.005	釕	Ru	102	0.105
銫	Cs	133	0.003	鈧	Sc	45	1.153
鉻	Cr	52	0.330	硒	Se	82	0.980
鈷	Co	59	0.054	銀	Ag	109	0.869
銅	Cu	63	0.745	鈉（**）	Na	23	3.770
鎵	Ga	71	0.008	鉭	Ta	181	0.322
鍺	Ge	74	1.162	鉈	Ti	205	0.596
金	Au	197	0.013	錫	Sn	120	0.929
銥	Ir	193	0.121	鎢	W	186	0.016
鐵	Fe	56	0.843	鈾	U	238	0.014
鉛	Pb	208	0.183	釩	V	51	0.068
鋰	Li	7	1.230	鋅	Zn	66	0.192
鎂	Mg	24	0.406

數(shù)值從Perkin Elmer Elan 6100 DRC（動(dòng)態(tài)反應(yīng)池）獲得。
BEC（ppt或ng/L）值由Q-POD Element終端制器獲得，由Milli-QIntegral系統(tǒng)提供進(jìn)水。
BEC（背景等效濃度）的計(jì)算方式為：
BEC = 背景修正強(qiáng)度/校準(zhǔn)斜率
校準(zhǔn)斜率（按從10 ng/L 到500 ng/L的10個(gè)標(biāo)準(zhǔn)品分析得到（其強(qiáng)度經(jīng)過(guò)背景校正）。
背景在不發(fā)生溶液霧化作用的情況下通過(guò)信號(hào)采集得到。
所得到的檢測(cè)限為限：即BEC。
鉀和鈉的較低的BEC值是采用更為合適的分析方式而得到的（如痕量離子色譜法）。